找答案
考试指南
试卷
请在
下方输入
要搜索的题目:
搜 索
何谓刻蚀?刻蚀速率?刻蚀的选择性?湿法刻蚀和干法刻蚀的比较?
何谓刻蚀?刻蚀速率?刻蚀的选择性?湿法刻蚀和干法刻蚀的比较?
发布时间:
2025-06-04 05:14:46
首页
教师继续教育
推荐参考答案
(
由 快搜搜题库 官方老师解答 )
联系客服
答案:
答:刻蚀是将形成在晶圆表面上的薄膜全部,或特定处所去除至必要厚度的制程。刻蚀速率是单位时间内去除的刻蚀材料厚度或深度。刻蚀的选择性,又称刻蚀速率比,是指在刻蚀过程中不同材料的刻蚀速率比。湿法刻蚀主要采用化学腐蚀进行,是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点,因而精度差,线宽一般在3um以上。而干法刻蚀(又称等离子体刻蚀)是因大规模集成电路生产的需要而开发的精细加工技术,它具有各向异性特点,在最大限度上保证了纵向刻蚀。
相关试题
1.
何谓刻蚀?刻蚀速率?刻蚀的选择性?湿法刻蚀和干法刻蚀的比较?
2.
刻蚀的主要参数包括刻蚀速率、刻蚀因子、刻蚀选择性、刻蚀清洁度和
3.
随后,选用具有刻蚀选择性的湿法刻蚀液,利用晶态与非晶态 GST 在刻蚀速率上的差异,
4.
氮化硅湿法刻蚀常常采用的湿法腐蚀液为: 。
5.
中国大学MOOC: 反应离子刻蚀进行刻蚀过程中
6.
太阳能电池片的生产工艺流程为:制绒、 、刻蚀、 、 。
7.
常见的刻蚀方法分为哪两类及其他们的特点?
8.
单晶硅刻蚀一般采用做掩蔽层.(在下面选择一个,填入)光刻胶.金属.二氧化硅.多晶硅
9.
以下特种加工工艺种,可达到纳米级加工精度的是A.电子束光刻B.离子刻蚀C.快速成型D.激光切割
10.
采用光刻蚀的方法在硅基片表面加工出纳米级结构,并通过硅烷化疏水处理可构建一层具有超疏水性的纳米结构。
热门标签
普通话考试内容题库
教师资格证试题库
综合素质题库
行政执法考试题库
金融基础知识题库
国家电网企业文化题库
事业考试题库
消防工程师考试题库
公务员考试题库
军队文职考试题库
题库软件
消防工程师题库
证券市场基本法律法规题库
社区工作者题库
公文写作题库
银行从业资格题库
公务员真题题库
区域考试题库
多选题题库
公务员面试题库