化学气相沉积方法有（ ）
A、常压化学气相沉积
B、低压化学气相沉积
C、磁控溅射
D、等离子增强化学气相沉积
发布时间：2025-02-28 10:40:01
请在 下方输入 要搜索的题目：
推荐参考答案 (
由 快搜搜题库 官方老师解答 )
答案：常压化学气相沉积 ■低压化学气相沉积 ■等离子增强化学气相沉积
相关试题
- 1.化学气相沉积方法有（ ）
- 2.简述化学气相沉积的应用
- 3.石墨烯的制备方法，主要有机械剥离法，外延生长法，化学气相沉积法，化学氧化还原法。（ ）
- 4.气相沉积工艺包括
- 5.A、物理气相沉积（PVD）B、物理气相沉积（CVD）C、化学气相沉积（VCD）D、化学气相沉积（CVD）
- 6.低压化学气相淀积与常压化学气相淀积法相比，优点有？
- 7.利用化学气相沉积法制备Si纳米薄膜只能通过热分解反应制得。
- 8.常见的物理气相沉积技术有。
- 9.曲流河相沉积亚相包括（）
- 10.【填空题】化学气相沉积法(CVD)是通过 的过程。CVD法可用于制造 、 、纤维等材料,它是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术
