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数字投影微光刻技术中的动态掩膜同传统平面光刻的掩膜结构类似
A、对
B、错
发布时间:
2025-07-20 09:54:07
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(
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答案:
错
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1.
数字投影微光刻技术中的动态掩膜同传统平面光刻的掩膜结构类似
2.
数字投影微光刻技术相较于传统平面光刻的优势为
3.
光刻时需要多片掩膜版,每一掩膜版的图形都需要进行
4.
当前,数字投影微光刻技术的主要局限在于
5.
供IC制造工艺中使用的光刻掩膜版的图形,称为( )。
6.
双光子聚合打印同数字投影微光刻技术的光固化原理是不同的
7.
目前数字投影微光刻技术精度无法达到10微米以下
8.
数字投影微光刻技术目前可以稳定实现纳米级别打印
9.
数字投影微光刻技术的固化原理是多光子吸收聚合
10.
不同于传统光固化式打印,数字投影微光刻技术能够大幅度提升打印精度的原因在于
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