找答案
考试指南
试卷
请在
下方输入
要搜索的题目:
搜 索
以下哪项是集成电路制造工艺中常用的薄膜沉积技术( )。
A、离子注入
B、湿法刻蚀
C、化学气相沉积(CVD)
D、封装材料成型
后备干部考试题库
发布时间:
2024-12-08 06:40:17
首页
食品安全员
推荐参考答案
(
由 快搜搜题库 官方老师解答 )
联系客服
答案:
C
相关试题
1.
以下哪项是集成电路制造工艺中常用的薄膜沉积技术( )。
2.
以下不是集成电路制造工艺特点的是:
3.
集成电路制造工艺中,以下对氧化速率没有影响的因素是: 。
4.
简述集成电路制造中的四种隔离技术
5.
光刻是集成电路制造最重要的工艺,是因为()。
6.
集成电路制造流程包括以下()。
7.
什么是快速原型制造技术常用的快速成型工艺方法有哪些
8.
什么是快速原型制造技术常用的快速成型工艺方法有哪些
9.
以下属于熔融沉积打印工艺参数的是
10.
光刻技术是集成电路制造工序中的核心工序之一,直接影响器件的性能。
热门标签
市场营销题库
邮政考试题库及答案
移动笔试题库
银行考试题库
教育综合知识题库
执法考试题库
中国农业银行笔试题库
法考题库
经济学题库
事业编制考试真题库
题库官网
国考题库
教师资格面试题库
教师职业道德题库
征信考试题库
事业编题库及答案
普通话考试内容题库
银行柜员考试题库
社会工作者考试题库
法律知识考试题库