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光刻是IC制造中最关键的工艺,光刻成本在整个硅片加工成本中几乎占到三分之一。
A、正确;
B、错误
发布时间:
2025-03-31 03:18:11
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相关试题
1.
光刻是IC制造中最关键的工艺,光刻成本在整个硅片加工成本中几乎占到三分之一。
2.
光刻是集成电路制造最重要的工艺,是因为()。
3.
在光刻工艺中为什么会出现浮胶?
4.
光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况
5.
简述光刻解析度
6.
相比于其他单个制造工艺来说,光刻对芯片集成度的发展有着革命性的贡献。
7.
光刻技术是集成电路制造工序中的核心工序之一,直接影响器件的性能。
8.
光刻加工主要用于()
9.
2、光刻要求硅片表面上存在的图案与掩膜版上的图形准确对准,这种特性指标我们称为 。
10.
光刻和刻蝕の目の是什麼?(20分)
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