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( )1、清洗的目的是去除零件表面或部件中的油污及机械杂质。
A、对
B、错
发布时间:
2025-05-21 22:29:18
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公共卫生执业医师
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(
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答案:
对
相关试题
1.
( )1、清洗的目的是去除零件表面或部件中的油污及机械杂质。
2.
为了去除表面的杂质、缺陷,进一步去除硅片表面微量的损伤层,需要进行的工艺是
3.
化学处理主要是利用化学原理,采用有机溶液、碱性或酸性溶液,使工件表面的油污及氧化物溶解在溶液中,以达到去除工件表面氧化皮、油污的目的。化学处理主要有( )等方法。
4.
关于机械部件及作用
5.
简述杂质的去除方法
6.
半导体清洗工艺主要分湿法清洗和干法清洗,主要区别是湿法清洗:依靠物理和化学(溶剂)的作用去除污渍。
7.
在下述去除杂质的方法中,属于纯水制备过程中去除有机物的方法是()。
8.
本身时一个零件,用来连接需要装在一起的零件或部件称基准部件。
9.
零件在进行表面处理前的清洗后,应达到()状态。
10.
带油污(如凡士林或石蜡油)的玻璃器皿,在洗前尽量去除油污,然后放在()中煮两次,再用洗涤剂和热
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